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                    半導體材料

                    CMP(化學機械平坦化)技術目前應用廣泛,隨著金屬布線層數的增加,需要進行CMP的步騍也越多,例如65nm工藝需要14次左右。

                    CMP工藝過程中需要多種耗材,如拋光墊(PAD)、拋光液(SLURRY)、鉆石碟(DISK)、清洗刷(BRUSH)等。

                    CMP材料約占晶圓制造材料成本的10%,與光刻膠接近。2019年拋光材料全球市場總量23億美元,預計2023年將達到35億美元,復合增長率10%以上。

                    CMP耗材具有技術壁壘高,客戶認證時間長的特點。目前國產化率很低,GMC計劃利用客戶群和自身技術優勢,致力于成為CMP全產業鏈供應商。

                    打造CMP材料生產基地:項目已啟動,生產多種CMP耗材。

                    深入了解客戶需求
                    產品設計以客戶為本

                    先進的工藝理念
                    指引產品研發方向

                    專業的測試平臺
                    貼近實際使用環境

                    多樣的產品序列
                    滿足客戶多樣需求

                    有力的管理體系
                    保證產品品質質量

                    深厚的設備底蘊
                    提供強大技術支持

                    產品優勢

                    GMC pad具有三種發泡工藝,可滿足不同應用的需求

                    • 液體化學孔隙(分離親水性聚氨酯和液體化學):具有較小的研磨墊損耗。
                    • 氣體孔隙(鑄造中加入惰性氣體):具有較好的金屬研磨速率
                    • 混合孔隙(發泡劑+惰性氣體):具有持續穩定的拋光性能

                    應用情況

                    GMC pad具有競爭力,能對標競品。且在無錫生產基地,配有新技術應用實驗室。用于新工藝、新材料、新設備測試,進一步滿足研發、應用、生產的各方面需求。

                    產品優勢

                    GMC pad具有三種發泡工藝,可滿足不同應用的需求

                    • 液體化學孔隙(分離親水性聚氨酯和液體化學):具有較小的研磨墊損耗。
                    • 氣體孔隙(鑄造中加入惰性氣體):具有較好的金屬研磨速率
                    • 混合孔隙(發泡劑+惰性氣體):具有持續穩定的拋光性能

                    應用情況

                    GMC pad具有競爭力,能對標競品。且在無錫生產基地,配有新技術應用實驗室。用于新工藝、新材料、新設備測試,進一步滿足研發、應用、生產的各方面需求。

                    應用情況

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                    產品優勢

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                    • 液體化學孔隙(分離親水性聚氨酯和液體化學):具有較小的研磨墊損耗。
                    • 氣體孔隙(鑄造中加入惰性氣體):具有較好的金屬研磨速率
                    • 混合孔隙(發泡劑+惰性氣體):具有持續穩定的拋光性能

                    應用情況

                    GMC pad具有競爭力,能對標競品。且在無錫生產基地,配有新技術應用實驗室。用于新工藝、新材料、新設備測試,進一步滿足研發、應用、生產的各方面需求。

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